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环球金鑫高纯铜靶材 发货快

环球金鑫高纯铜靶材 发货快
更新时间:2017-08-09
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供应分类:北京化工 > 北京助剂
发布企业:北京环球金鑫国际科技有限公司
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详细介绍

 

北京环球金鑫国际科技有限公司是一家表面改性技术与真空镀膜材料研发的企业:环球金鑫以表面技术、镀膜材料和新能源开发为其研究领域,产品广泛服务于各个高校及高新技术领域的企业,公司通过多年来应用研究及新产品开发,已形成了自己独立知识产权的技术和系列产品,同时公司还拥有一支高素质的研发、生产、管理和销售队伍,与国内外多所院校、研究所、企业有合作关系。公司现主要从事表面改性、镀膜材料及高技术产品研发。

公司主要经营范围有:真空溅射靶材、光学镀膜材料、高纯金属与氧化物试剂、无机非金属材料以及提供金属、陶瓷与塑胶表面改性加工。

环球金鑫坚持以:“可靠的质量,完善的售后服务,崇高的信誉”为宗旨,凭着过硬的产品,合理的价格以及多年的创业历程,公司现已发展成为具有一定规模的专业性高新技术产品供应商,并设有加工工厂,加工检测设备齐全。公司秉乘着:“诚信为本、信誉至上”经营理念,真诚希望成为您长期的合作商,并热忱欢迎新老客户的光临!

 

 

北京环球金鑫国际科技有限公司为您长期供应:高纯金属,高纯靶材,以及靶的相关产品。铝靶Al,银靶Ag,金靶Au,钴靶Co,铬靶Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,钛靶Ti,锌靶Zn,镁靶Mg,铌靶Nb,锡靶Sn,铟靶In,铁靶Fe,锆靶Zr,铂靶Pt,钽靶Ta,锗靶Ge,硅靶Si,钨靶W,铪靶Hf,钆靶Gd,钐靶Sm,镝靶Dy,铈靶Ce,钇靶Y,镧靶La,铼靶Re,钌靶Ru,钯靶Pd,铑靶Rh,铋靶Bi,钛铝Ti-Al,铝硅Al-Si,铝铜Al-Cu,铝钛Al-Ti,银铜Ag-Cu,铝镁Al-Mg,钴铁硼Co-Fe-B,铜铟镓Cu-In-Ga,铁锰Fe-Mn,铟锡In-Sn,钴铁Co-Fe,镍钴Ni-Co,镍铁Ni-Fe,镍铬Ni-Cr,镍锆Ni-Zr,镍铝Ni-Al,镍铜Ni-Cu,镍钒Ni-V,钨钛W-Ti,锌铝Zn-Al,铝钛硼Al-Ti-B,铝钪Al-Sc,钒铝铁V-Al-Fe,铜锡Cu-Sn,锆铝Zr-Al,钒铝V-Al,硼铁B-Fe,铌锆Nb-Zr等。

陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4,氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2,二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiB2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镧靶LaTiO3, 钛酸镨靶PrTiO3,钛酸锶SrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),LGZO靶,氧化铪靶HfO2。

Tel  :+86 010 56188357

Mob :15701313010

Q Q :2205888486

Email:huanqiujinxin@foxmail.com

主页:www.china-jinxin.com.cn

 

 

 

 

品牌:环球金鑫

产地 北京市

纯度 99.99%

规格:根据用户要求进行定制,来样加工,来图加工

最少起订量 1片,量大优惠

格:300-1000元随意写

供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月

交货期 单片材料1周内发货,批量材料5天-7天内发货(工作日)

制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器 各类型号磁控溅射设备等

产品用途 工业级镀膜,实验或研究级别用靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等

产品优点:  质量可靠,价格优惠 还原法制备,纯度高,杂质少 轧制致密,氧化少,成型可塑,相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)

 

 

 

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陶瓷靶材,氮化硅靶Si3N4,氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2,二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiB2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镧靶LaTiO3, 钛酸镨靶PrTiO3,钛酸锶SrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),LGZO靶,氧化铪靶HfO2。

 

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Q Q :2205888486

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元素符号

Cu

原子序数

29

原子量

63.546

熔点

1084.4°C

纯度

99.9% 99.99% 99.999% 99.9999%

沸点

2567°C

密度

8.92g/cm3

颜色

铜红

合成方法

一氧化碳还原氧化铜,电解硫酸铜溶液。

产品规格

(0.5-75um)粉末、(0.2-6mm)铜丝、(1—10mm)颗粒 、(10-100mm)块状

 

(直径<360mm  厚度>1mm)圆片、圆台、圆棒

 

(直径<360mm  厚度>1mm)台阶状(可拼接)、矩形、片状

 

旋转靶材、圆环、管材等

 

根据图纸或按要求定制,来电咨询

产品优点

质量可靠,价格优惠,真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少,轧制致密,氧化少,成型可塑,相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品用途

铜是与人类关系非常密切的有色金属,被广泛地应用于电气、轻工、机械制造、建筑工业、国防工业等领域,在中国有色金属材料的消费中仅次于铝。

铜在电气、电子工业中应用最广、用量最大,占总消费量一半以上。用于各种电缆和导线,电机和变压器,开关以及印刷线路板的制造中。 在机械和运输车辆制造中,用于制造工业阀门和配件、仪表、滑动轴承、模具、热交换器和泵等。

在化学工业中广泛应用于制造真空器、蒸馏锅、酿造锅等。

在国防工业中用以制造子弹、炮弹、枪炮零件等,在建筑工业中,用做各种管道、管道配件、装饰器件等。

产品附件

正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

产品包装

真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

制作工艺

真空磁悬浮熔炼,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器

各类型号磁控溅射设备

交货期

单片材料1周内发货,批量材料7—10个工作日内发货

产品运输

国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦等)

起订量

1片

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陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4,氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2,二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiB2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镧靶LaTiO3, 钛酸镨靶PrTiO3,钛酸锶SrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),LGZO靶,氧化铪靶HfO2。

 

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靶材真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铜材料经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性,目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域

 

铜靶材用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铜靶材的价格较低,所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。

铜靶材分类

    铜靶材有平面铜靶材和旋转铜靶材之分。

平面铜靶材是片状的,有圆形、方形等。

旋转铜靶材是管状的,利用效率高,但不易加工,要通过高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理,机加工等多种加工工序才能最终制得铜旋转靶材成品。

铜靶材的生产方法

1、铜的生产和提纯:炼铜的原料是铜矿石。铜矿石可分为三类

⑴硫化矿如黄铜矿(CuFeS?)斑铜矿(Cu5FeS?)和辉铜矿(Cu?S)等。

⑵氧化矿如赤铜矿(Cu?O)孔雀石[Cu?(OH)?CO?]硅孔雀石(CuSiO?·2H?O)等。

⑶自然铜铜矿石中铜的含量在1%左右(0.5%~3%)的便有开采价值,因为采用浮选法可以把矿石中一部分脉石等杂质除去,而得到含铜量较高(8%~35%)的精矿砂。经过提取后得到粗铜,再通过多次电解、区域熔炼等方法将铜从99.95%提纯到99.99%、99.999%、99.9999%,目前国内最高纯度在99.9999%(6N)左右。

2、有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。

3、对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

 

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